以稀土抛光粉中CeO2量来划分：
稀土抛光粉的主要成分是CeO2，据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉，佛山稀土抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%，另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，稀土抛光粉生产，或者低于50%，其余由La2O3，Nd2O3，Pr6O11组成。
在稀土抛光粉的消费中，日本是消费者，每年约生产3550吨~4000吨抛光粉，产值35亿~40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉。其中抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，对基抛光粉的需求量也迅速增加。估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%.90年代以来，稀土抛光粉的价格，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如：日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用基抛光粉。
主要指标：产品中w（REO）=99%，w（CeO2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），稀土抛光粉生产工艺，晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物（w（REO）=65%，w（CeO2）≥48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（CeO2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
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